Unterschiede

Hier werden die Unterschiede zwischen zwei Versionen angezeigt.

--- projekte:aetzanlage [2016/08/07 11:44] – [Belichten] jan_henrik
+++ projekte:aetzanlage [2016/08/07 12:03] – [Entwickeln] jan_henrik
@@ Zeile 81: / Zeile 81: @@
 Drücken = Bestätigen
-Eine gute Belichtungszeit bei diesem ist - Nick trag hier mal was ein! D: - min.
+Eine gute Belichtungszeit bei diesem ist 1:20 min.
+==== Entwickeln ====
+Nach dem Belichten muss die Platine entwickelt werden, dadurch entfernt man den Fotolack an bestimmten stellen, wo das Kupfer weggeätzt werden soll.
+Um dies zu tun benutzen wir Natriumhydroxid welches wir in warmen Wasser lösen. Ganz gut funktionieren ca 1.85 % Natriumhydroxid, die Wassermenge sollte ca. 200 ml betragen. Dafür brauchen wir dann ca. 3.66g Natriumhydroxid.
+Um dies zu lösen haben wir einen Magnetrührer.
+{{:projekte:ruehrer1.jpg?300|}}
+{{:projekte:ruehrer3.jpg?300|}}
+Der Rührer kann mit 5V oder 12V betrieben werden, es empfehlen sich jedoch 5V.
+=== How to Rühren ===
+Gefäß mit zu rührender Flüssigkeit auf das WZ-Logo auf den Rührer stellen und den Rührfisch (kleines schwarzes Stäbchen) hinzufügen.
+Schalter auf die Vor- oder Zurück-position bringen.
+Mit dem Poti die Geschwindigkeit einstellen.
+Natriumhydroxid hinzufügen.
+Rühren lassen...
+(todo Fotos)
 ===== Leitfaden zur Benutzung der Ätzanlage der Warpzone e.V. =====