Unterschiede

Hier werden die Unterschiede zwischen zwei Versionen angezeigt.

--- projekte:aetzanlage [2016/08/07 11:44] – [Belichten] jan_henrik
+++ projekte:aetzanlage [2016/08/07 12:38] – [Reinigen] jan_henrik
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   - Die belichtetet Platine Entwickeln
   - Die Entwickelte Platine Ätzen
-  - Danach die Reste vom Fotopositiv mit 2-Propanol abwaschen
+  - Danach die Reste vom Fotopositiv mit 2-Propanol (Iso) abwaschen
   - Platine Bohren und bestücken
+=== Die Anlage ===
+{{:projekte:aetzanlage9.jpg|}}
 === Ergebnisse ===
 {{:projekte:pcb2.jpg?300|}}
-{{  :projekte:pcb3.jpg?300|}}
+{{:projekte:pcb3.jpg?300|}}
 ===== Die Komponenten und deren Benutzung im Detail =====
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 (todo Fotos)
-Nach dem Drucken sollte die Vorlage mit Tonerverdichter oder Solvent bearbeitet werden, da diese den Kontrast noch mal erhöhen.
+Nach dem Drucken sollte die Vorlage mit Tonerverdichter oder Solvent bearbeitet werden, da diese den Kontrast noch mal erhöhen. Dazu muss die Ätzvorlage mit einem von den beiden Mitteln eingesprüht werden.
 (todo Fotos)
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 Drücken = Bestätigen
-Eine gute Belichtungszeit bei diesem ist - Nick trag hier mal was ein! D: - min.
+Eine gute Belichtungszeit bei diesem ist 1:20 min.
+==== Entwickeln ====
+Nach dem Belichten muss die Platine entwickelt werden, dadurch entfernt man den Fotolack an bestimmten stellen, wo das Kupfer weggeätzt werden soll.
+Um dies zu tun benutzen wir Natriumhydroxid welches wir in warmen Wasser lösen. Ganz gut funktionieren ca 1.85 % Natriumhydroxid, die Wassermenge sollte ca. 200 ml betragen. Dafür brauchen wir dann ca. 3.66g Natriumhydroxid.
+Um dies zu lösen haben wir einen Magnetrührer.
+{{:projekte:ruehrer1.jpg?300|}}
+{{:projekte:ruehrer3.jpg?300|}}
+Der Rührer kann mit 5V oder 12V betrieben werden, es empfehlen sich jedoch 5V.
+=== How to Rühren ===
+  - Gefäß mit zu rührender Flüssigkeit auf das WZ-Logo auf den Rührer stellen und den Rührfisch (kleines schwarzes Stäbchen) hinzufügen.
+  - Schalter auf die Vor- oder Zurück-position bringen.
+  - Mit dem Poti die Geschwindigkeit einstellen.
+  - Natriumhydroxid hinzufügen.
+  - Rühren lassen...
+(todo Fotos)
+=== Entwicklungsvorgang ===
+Sobald die Platine belichtet und der Entwickler angerührt ist, kann die Platine entwickelt werden. Dies ist ein wenig knifflig, da man recht wenig Zeit hat sobald die Platine im Entwickler ist.
+Der Entwickler muss in die schwarze Schale gekippt werden. Nun kann man die Platine darein halten. Wichtig ist, dass die ganze Platine auf einmal in die Lösung getaucht wird. Sobald sich alles was weggeätzt werden soll mit einem Lila-schleier ablöst muss die Platine raus genommen und sofort abgewaschen werden! Ansonsten kann auch das was stehen bleiben soll abgehen!
+Nun ist die Platine fertig belichtet und kann geätzt werden!
+==== Ätzen ====
+Für den Ätzvorgang haben wir eine Ätzküvette welche mit einer geregelten Heizung und einer neuen Pumpe versehen wurde. Als Ätzmittel verwenden wir Natriumpersulfad.
+{{:projekte:aetzanlage1.jpg?300|}}
+{{:projekte:aetzanlage4.jpg?300|}}
+{{:projekte:aetzanlage6.jpg?300|}}
+{{:projekte:aetzanlage7.jpg?300|}}
+Vor dem Ätzvorgang sollte das Ätzbad ca 45 min aufwärmen.
+Zum Ätzen muss der Platinenhalter aus der Küvette raus genommen werden und die Platine dort eingespannt werden.
+Danach muss beides wieder in das Ätzbad eingehangen werden, der Ätzvorgang ist nun gestartet.
+Das ganze kann zwischen 20 min bis 40 min dauern. Der Ätzvorgang ist beendet, wenn alles was weggeätzt werden sollte weg ist.
+Danach muss die Platine nochmal mit Wasser abgewaschen werden.
+==== Reinigen ====
+Die Platine sollte danach mit 2-Propanol abgeputzt werden, da sich die Reste vom Fotopositiv noch auf dieser befinden.
+Natürlich muss auch die Ätzanalage gereinigt werden, dass heißt:
+  - Alle Oberflächen abputzen
+  - Das Rührgefäß ausspülen
+  - den Platz aufräumen
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 ===== Leitfaden zur Benutzung der Ätzanlage der Warpzone e.V. =====